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高深宽比紫外光刻机(Cchip-0019)

高深宽比紫外光刻机(Cchip-0019)是一款针对微流控芯片的一款光刻机设备采用目前先进的LED光源,紫外波长365nm,纯度高,辐照能量均一可调,智能化触屏操作面板:外观上较传统光刻机体积更小,集成度越高,简化操作流程,提高了光刻工艺效率。

另外,我们对曝光系统进行了优化,将曝光过程中最大衍射误差降低到极限;保证图案设计值与实际值一致,从而为芯片制程保驾护航。

  • 详细信息

技术参数:

1、 照明光束:120mm*120mm

2、 有效曝光面积:110mm*110mm

3、 分辨力0.8um

4、 对准精度±0.5um

5、 显微镜扫描范围:X30mm-100mm;Y: ±15mm

6、 掩膜尺寸:3寸、4寸、5

7、 样片尺寸:1英寸-4英寸晶圆极不规则基片;厚度0.2mm-3mm

8、 照明不均匀性:±2%110mm*110mm范围)

9、 对准运动行程:X: ±5mm;Y:±5mm;θ:±6

10、 光源平行性:<1.8°

11、 厚胶曝光深度比:>20:1

12、 曝光能量密度:20mW/cm

13、 曝光方式:定时(倒计时方式0.1s-999.9s

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