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掩膜版

掩模版又称mask或光罩,分为铬版、干版、菲林、凸版等,含光建议试用精度高、耐用的铬版。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版,由表面纯平并带有一层厚约0.1um的石英板或玻璃板制作而成,蚀刻后的残留铬部分即为设计的图形。

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含光微纳提供全系列石英、苏打玻璃铬掩膜版,制版最小线宽 1.5um,精度 0.2um,适配4、6英寸光刻等多种尺寸,满足从高精尖科学研究到大规模企业量产的全方位需求。提供版图设计服务,根据客户提交的草图,为客户绘制符合芯片要求的版图。



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